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鈦白粉如何實(shí)現(xiàn)良好的分散效果

     分散是進(jìn)行鈦白粉顆粒表面包膜處理的前提，理想的分散是顆粒呈原級(jí)粒子分散的狀態(tài)，這樣膜才可能包覆在原級(jí)顆粒上，否則，由于分散不佳，膜包覆在絮凝團(tuán)外圍，當(dāng)絮凝團(tuán)經(jīng)受超微粉碎后，膜將是殘缺不全，不能達(dá)到預(yù)期的效果。

　　分散的過程首先是將前粉碎（雷蒙磨）后的物料（或者是氧化料）加入除鹽水中制成漿料，通過攪拌進(jìn)行分散，為了提高分散效果，需要加入分散劑。通常情況下，分散的難度TiO2濃度有關(guān)，因此，僅從分散角度考慮，降低濃度有益于分散。但是，后道工序的狀況必須予以考慮，當(dāng)后續(xù)工序直接為包膜時(shí)，則濃度只要滿足包膜工藝要求即可；當(dāng)后續(xù)工序接濕磨時(shí)，則必須充分考慮有利于濕磨的條件。

　　為了提高研磨效果，宜提高物料的濃度。過去預(yù)分散漿液的濃度控制在30%左右，現(xiàn)在已提高至40%，國外還有更高的濃度。在滿足物料流動(dòng)性能的情況下，提高濃度是有益的。為了確保設(shè)備的完全，物料的研磨時(shí)間不宜過長，當(dāng)確實(shí)需要時(shí)，要采取外置冷卻及串聯(lián)等措施。

　　濕磨的設(shè)備通常采用砂磨機(jī)，該設(shè)備能耗高，投資大，但分散功能顯著，還能改善粒子的形狀，因而在大多數(shù)后處理的裝置中均采用這一設(shè)備。砂磨機(jī)在國內(nèi)有多家生產(chǎn)廠，產(chǎn)品廣泛用于油漆、涂料行業(yè)，但用于鈦白生產(chǎn)的砂磨機(jī)還很少，且設(shè)備規(guī)格相對(duì)較小，對(duì)于萬噸級(jí)的鈦白生產(chǎn)裝置而言，宜采用引進(jìn)的大型砂磨機(jī)。砂磨機(jī)有立式和臥式之分，立式為常壓操作，臥式可在一定的壓力下運(yùn)行。這兩種形式在國外鈦白的生產(chǎn)中均有采用。砂磨機(jī)的筒體應(yīng)該是耐磨金屬材料，也可以是耐磨非金屬材料，考慮到筒體的磨蝕可能產(chǎn)生對(duì)產(chǎn)品的污染，應(yīng)以耐磨非金屬材料為佳。砂磨機(jī)的工質(zhì)有砂或珠，對(duì)這些工質(zhì)的要求是具有耐磨性和具有較高的密度。較合適的砂為渥太華砂，砂粒直徑小于1mm。

　　砂磨機(jī)的研磨效果是選擇砂磨機(jī)的基本要求，對(duì)于二氧化鈦的半成品（雷蒙后的料或氧化料）粒徑要求小于325目，對(duì)于高質(zhì)量的鈦白產(chǎn)品，經(jīng)研磨后的粒子較以往重力沉降分級(jí)控制的5μm有了較大的提高，要求達(dá)到1μm以下，這對(duì)僅僅是采用攪拌而言是難以達(dá)到的，而對(duì)于引進(jìn)砂磨機(jī)而言，則基本都能滿足要求。對(duì)于砂磨機(jī)的生產(chǎn)能力的標(biāo)定，由于國內(nèi)生產(chǎn)廠家的經(jīng)驗(yàn)不多，國外運(yùn)行數(shù)據(jù)也掌握得較少，再加上與物料的特性以及預(yù)分散狀況等因素有關(guān)，因此很難一概而論，習(xí)慣上一些廠家用停留時(shí)間來確定能力，但涉及對(duì)物料的濃度以及研磨狀態(tài)的好壞等因素，用停留時(shí)間來標(biāo)定就顯得不太科學(xué)，取而代之的是研磨注入的能耗，對(duì)于臥式砂磨機(jī)而言，其研磨能耗（制造廠推薦）約為40kW.h.tTiO2，亦即通過砂磨機(jī)的實(shí)耗功率除以單位產(chǎn)品的能耗值得到砂磨機(jī)的生產(chǎn)能力。對(duì)于立式砂磨機(jī)，其研磨能耗（制造廠推薦）約為80kW.h/tTiO2。表面看來，臥式和立式砂磨機(jī)生產(chǎn)能力相差很大，實(shí)際上，砂磨機(jī)的生產(chǎn)能力應(yīng)根據(jù)物料特性和研磨要求來確定，必要時(shí)，應(yīng)進(jìn)行試驗(yàn)測(cè)定。

　　在砂磨以后，漿料中TiO2的顆粒已得到了較好的分散，這種分散的狀況已能滿足包膜的要求。但是，在砂磨的過程中，砂或球的磨蝕是客觀存在的，甚至有時(shí)會(huì)出現(xiàn)破碎的可能，當(dāng)砂或球的粒徑小于一定尺寸時(shí)，則會(huì)隨著物料流出的砂磨機(jī)，這些顆粒沒有顏料性能，混入產(chǎn)品則會(huì)對(duì)質(zhì)量產(chǎn)生影響，同時(shí)也會(huì)影響后續(xù)加工設(shè)備，甚至可能造成設(shè)備的損壞，為此需要將這些雜質(zhì)顆粒除去。